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紫外激光劃片機
| LPAUV-355C
紫外激光劃片機 | LPAUV-355C

應(yīng)用領(lǐng)域

主要應(yīng)用于SiC,LOW-K等材料的 表面切割,適用于半導體行業(yè)的SiC, LOW-K等晶圓

產(chǎn)品特點

  • 采用定制長脈寬紫外激光器;特別適用于切割SIC,LOW-K等晶圓,劃片良率高于行業(yè)競爭對手

  • 采用定制高精密大理石運動平臺;抗震性好,精度高,劃片效率高于行業(yè)競爭對手

  • 獨特的光學設(shè)計方案;對激光源形成閉環(huán)實時監(jiān)測,可有效防止因激光源衰減而導致報廢晶圓 涂膠和清洗分離式設(shè)計,大大提高劃片效率 公司通過SEMI半導體協(xié)會認證;支持MES系統(tǒng);設(shè)備可廣泛應(yīng)用于半導體終端客戶 設(shè)備兼容6/8/12寸晶圓;可實現(xiàn)客戶品種快速切換

 設(shè)備環(huán)境需求及參數(shù)   
電壓,功率 AC 三相 380V,4KW
供氣規(guī)格 0.6Mpa,¢10
環(huán)境溫度 23±2度;55±10%
設(shè)備尺寸 長*寬*高(2200*1800*1800mm)
設(shè)備重量 3000KG
數(shù)據(jù)庫 MES系統(tǒng)
UPS, FFU 選配
排氣規(guī)格 0.2Mpa, ¢90
排水 5L/Min
供水 0.3Mpa; 5L/Min
 設(shè)備環(huán)境需求及參數(shù)  
電壓,功率 AC 三相 380V,4KW
供氣規(guī)格 0.6Mpa,¢10
環(huán)境溫度 23±2度;55±10%
設(shè)備尺寸 長*寬*高(2200*1800*1800mm)
設(shè)備重量 3000KG
數(shù)據(jù)庫 MES系統(tǒng)
UPS, FFU 選配
排氣規(guī)格 0.2Mpa, ¢90
排水 5L/Min
供水 0.3Mpa; 5L/Min
  • 產(chǎn)品及應(yīng)用

  • 江蘇萊普激光設(shè)備